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漫反射紅外反應池 您當前的位置: 首頁 > 產品中心 > 低溫技術 > 部件產品 > 原位反應池 > 漫反射紅外反應池

產品概述 Product Overview

原位高溫紅外反應池,適用于高溫條件下多相催化、氣固催化、光催化體系紅外在線測試的原位裝置。該裝置主要針對于具有高表面積的粉末樣品。最高操作溫度400℃。


產品亮點 Highlights

● 該原原位反應池適合于高溫條件下多相催化、氣固催化、光催化體系紅外在線測試

● 樣品臺加熱溫度范圍:RT-400℃,溫度控制精度:±1℃

● 采用K型熱偶作為溫度傳感器

● 裝置主體采用316L不銹鋼制作,具備一定的強度和耐腐蝕性

● 頂部法蘭為DN35CF

● 池子死體積小,配2個紅外窗口

● 裝置可進行充氣處理,并可承受一定壓力,壓力調節范圍:1-10bar


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