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復雜超高真空系統用遠程等離子清洗源技術

文章來源:

費勉儀器(FERMI INSTRUMENTS)目前已成功開發出針對復雜真空系統碳污染原位清除的新一代遠程等離子清洗源。




低壓氣體受外界能量激發產生等離子體,包括電子、離子、中性原子或基團等不同成分,依靠活性粒子的“活化作用”與物體表面進行物理轟擊和化學反應雙重作用,將所需去除物質變為揮發性物質,即可經由抽真空去除。較之常規化學清洗,等離子表面處理不需要區分處理對象的基材類型,除去一些電敏感性設備,可用于金屬、有機物等多種材料,不產生有害污染,綜合成本低,此外還可以改善材料表面附著性能,因而廣泛應用于等離子清洗、表面處理等領域。

傳統等離子清洗機待處理樣品需置于清洗機內部,無法處理大型復雜真空系統內部;而費勉儀器已開發出的針對真空系統內部的等離子表面處理系統,實現了在超高真空腔體內壁無損的情況下清洗和微拋光,但是需要在腔體內部設置放電電極,使用上仍存在較多限制。

目前,費勉儀器已開發出新一代遠程等離子清洗源,則取消了腔體內部電極設計,更加安全方便。系統適用于超高真空工作環境,工作過程不需要拆除其他真空部件,并且無需拆除清洗源即可進行后續烘烤,使得真空系統可以更加長久地保持良好的真空度。 



▲復雜超高真空系統等離子清洗


新一代等離子清洗源工作氣壓從E-3 mbar到1 mbar,工作氣體選擇廣泛,以匹配去除不同類型的污染物??筛鶕嶋H需求將等離子體中離子與活化分子分離,避免離子轟擊對表面產生傷害或者加熱樣品,僅通過活化成分,如氧原子、活性氧分子等與有機物進行反應,去除表面污染。



▲小巧等離子清洗腔


實踐過程中,根據實際腔體或者部件、硅片等不同需求,對離子源功率以及氣壓進行調節,可以迅速得到完全潔凈和無氧化層的表面,即使是邊遠角落也可以有效清除,從而維護真空環境的潔凈。



▲等離子清洗機



▲等離子清洗機清洗中


費勉儀器(FERMI INSTRUMENTS)長期致力于為全球科研機構、國家重大儀器項目和高端工業需求提供精密儀器裝置、核心技術、整體解決方案,此次開發的等離子清洗系統可用于復雜真空互聯系統,避免開腔產生二次污染,工藝過程易控制,清洗精度高,能夠有效去除油脂、油污等有機物及氧化層以及沉積殘余,營造良好的實驗環境,熱忱歡迎廣大客戶前來接洽。


標簽: 等離子
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